23 september 2010 Joop Wenstedt
De resolutie is verder verbeterd tot 0,8 nanometer bij 30 kV onder hoog vacuüm, voorheen was dit 1,4 nanometer. De nieuwe apparaten hebben minder energie nodig voor de beeldvorming, wat beter is voor de monsters, omdat die dan minder beschadigd raken.
Het apparaat is ontwikkeld in Eindhoven en wordt geproduceerd in het Tsjechische Brno. Naar verwachting worden de eerste exemplaren eind dit jaar geleverd.
Technisch Weekblad is een uitgave van Beta Publishers.
© 2012 www.technischweekblad.nl - alle rechten voorbehouden.